エアロゾルデポジション(AD)法の基礎・成膜メカニズムとデバイス応用・将来展望

★常温でのセラミック成膜が可能なAD法!成膜をうまく実現する方法とは?
★エアロゾルデポジション:AD法で作ったリチウムイオン電池の固体電解質膜などをはじめとするエネルギーハーベスティングデバイスのポテンシャルとは?
セミナー風景

【会　場】 東京中央区立産業会館 4F　第2集会室 【東京・中央区】都営浅草線・東日本橋駅より徒歩4分など

【日　時】 平成23年10月6日(木)　13:30-16:15

【定　員】 30名　※満席になりましたら、締め切らせていただきます。早めにお申し込みください。

【聴講料】 【早期割引価格】1社2名まで46,200円(税込、テキスト費用を含む)
※9月23日を過ぎると【定価】1社2名まで49,350円(税込、テキスト費用を含む) となります
◆同一法人より3名でお申込みの場合、69,300円

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http://ec.techzone.jp/products/detail.php?product_id=2357

第1部　エアロゾルデポジション法における成膜技術の基礎とプラズマ援用による高度化

【13:30-14:30】

講師:龍谷大学　理工学部　機械システム工学科　講師　森　正和　氏

【講演主旨】
エアロゾルデポジション法は種々のセラミックスや金属が常温形成可能な成膜技術である.本講演ではエアロゾルデポジション法の概略といくつかの成膜事例を紹介する.さらに,エアロゾルデポジション法の高度化の一例としてプラズマ援用についても取り上げる.

【プログラム】

1.エアゾロルデポジション法とは?

2.AD法による成膜事例
　2-1　プラスチック基板上へのアルミナ形成
　2-2　ニッケル,銅などの金属膜形成
　2-3　積層膜の形成
　2-4　硬質装飾膜の形成

3.エネルギ-援用エアロゾルデポジション法
　3-1　プラズマ援用エアロゾルデポジション法とは?
　3-2　プラズマ援用エアロゾルデポジション法の成膜装置
　3-3　プラズマ援用エアロゾルデポジション法による成膜事例

【質疑応答】

第2部　エアロゾルデポジション(AD)法の成膜メカニズムとデバイス応用・将来展望

【14:45-16:15】

講師:独立行政法人産業技術総合研究所 　先進製造プロセス研究部門　上席研究員　(兼)　集積加工尾研究グループ長　先進コーティング技術プラットフォーム・主監　明渡　純　氏

【講師ご経歴】

1984年早大理工学部応用物理学科卒、1989〜1991年同理工学部助手をへて、1991年通産省工業技術院機械技研入所、2001年から独立行政法人・産業技術総合研究所グループ長、工学博士。専門:薄膜工学、デバイス集積化技術、光応用計測。現在、エアロゾルデポジション法やインクジェット法によるセラミックスインテクグレーション技術とMEMSデバイス等を研究。2002〜2006年度・経済産業省ナノテクノロジープログラム・プロジェクトリーダー。常温衝撃固化現象によるAD 法の発明者。

2007年　第39回 市村賞　学術貢献賞。
2007年　平成9年度　文部科学大臣表彰　科学技術賞　研究部門。
2007年　第5回　産学官連携功労者表彰　科学技術政策大臣賞。
2007年　平成19年度　全国発明表彰　21世紀発明賞。
2009年　平成20年度　日本機械学会賞(技術)。　
2011年　第65回(平成22年度)日本セラミックス協会賞(学術賞)
など受賞

【講演主旨】
エアロゾルデポジション(AD)法は、常温衝撃固化現象を利用して　常温、高速にセラミックス機能膜を形成する技術である。　本講演では、成膜原理やプロセスパラメータなどの基本からエネルギーデバイスへの応用開発など、最新情報を紹
介する。

【プログラム】
1.研究の背景
2.エアロゾルデポジション(AD)法とは?
　2-1　成膜方法・装置の概要
　2-2　成膜特性(電気・機械特性、微細パターニング法など)

3.成膜メカニズムについて
　3-1　固体粒子の照射によるコーティング技術の歴史
　3-2　固体微粒子衝突速度の測定法
　3-3　成膜メカニズムの基本とその制御要因

4.AD法のデバイス応用
4-1　各種電子部品関連への応用と国家プロジェクトの推進
4-2　エネルギーデバイスへの応用(1)　Li電池応用
　4-3　エネルギーデバイスへの応用(2)　燃料電池応用
　4-4　エネルギーデバイスへの応用(3)　太陽電池応用
　4-5　エネルギーデバイスへの応用(4)　超電導線材応用
　4-6　大面積成膜について　(ロールtoロール方式など)
　4-7　その他応用の可能性　(医療用部材、装飾関連)

5.　特許出願と海外研究開発の動向

【質疑・名刺交換】